1
日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，号称回收率达 50%
IT之家 10 月 6 日消息，据科技媒体 Tom's Hardware 今天报道，日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 现已推出新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩（ArF）准分子激光器。 据报道， 这套系统可实现 50% 氖气回收率 ，未来调整系统配置后， 有望进一步提升回收效率 。…
IT之家 10 月 6 日消息，据科技媒体 Tom's Hardware 今天报道，日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 现已推出新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩（ArF）准分子激光器。 据报道， 这套系统可实现 50% 氖气回收率 ，未来调整系统配置后， 有望进一步提升回收效率 。…