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富士胶片大分新厂竣工：制造 CMP 后清洗剂，产能提升 3 倍
富士胶片大分新厂投产，CMP后清洗剂产能跃升3倍，卡位半导体材料高增长赛道。
IT之家 8 月 24 日消息，Fujifilm（富士胶片）当地时间本月 20 日宣布，其位于九州大分的新半导体材料工厂现已竣工。该生产设施将制造用于 CMP（化学机械抛光）后处理的清洗剂， 将使大分工厂的相关产能提升 3 倍 。 CMP 后清洗剂旨在清洁颗粒、杂质金属和有机残留物，同时保护金属表面…
富士胶片大分新厂投产，CMP后清洗剂产能跃升3倍，卡位半导体材料高增长赛道。
IT之家 8 月 24 日消息，Fujifilm（富士胶片）当地时间本月 20 日宣布，其位于九州大分的新半导体材料工厂现已竣工。该生产设施将制造用于 CMP（化学机械抛光）后处理的清洗剂， 将使大分工厂的相关产能提升 3 倍 。 CMP 后清洗剂旨在清洁颗粒、杂质金属和有机残留物，同时保护金属表面…