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俄企业成功开发 150nm 电子束直写光刻原型系统
IT之家 7 月 24 日消息，据俄罗斯媒体 CNews 当地时间 20 日报道， 该国企业泽列诺格勒纳米技术中心已于今年 6 月成功开发出 150nm 电子束直写光刻原型系统 ，这一设备的名称似乎可以意译为 "Progress ELL 150"。 泽列诺格勒纳米技术中心负责人表示，目前正对两套原型…
IT之家 7 月 24 日消息，据俄罗斯媒体 CNews 当地时间 20 日报道， 该国企业泽列诺格勒纳米技术中心已于今年 6 月成功开发出 150nm 电子束直写光刻原型系统 ，这一设备的名称似乎可以意译为 "Progress ELL 150"。 泽列诺格勒纳米技术中心负责人表示，目前正对两套原型…